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Performances et rendements de 2 nm sur la bonne voie, la production de masse démarrera en 2025

Performances et rendements de 2 nm sur la bonne voie, la production de masse démarrera en 2025

En plus de révéler sa feuille de route et ses projets concernant ses technologies de processus de pointe actuelles, TSMC a également partagé les progrès de son nœud N2 dans le cadre de ses symposiums 2024. Le premier nœud de fabrication de classe 2 nm de l’entreprise, et comportant principalement des transistors à grille complète. , selon TSMC, N2 a presque atteint ses objectifs de performance et de rendement, ce qui le place sur la bonne voie pour entrer dans la fabrication à haut volume au second semestre 2025.

TSMC déclare que « le développement du N2 est en bonne voie et que le N2P est le prochain ». En particulier, les dispositifs à nanofeuilles à grille complète atteignent actuellement plus de 90 % de leurs performances attendues, alors que les rendements des dispositifs de 256 Mo de SRAM (32 Mo) dépassent déjà 80 %, selon le lot. Tout cela pour un nœud qui est à plus d’un an de la production de masse.

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Parallèlement, le rendement moyen d’une SRAM de 256 Mo était d’environ 70 % en mars 2024, contre environ 35 % en avril 2023. Les performances de l’appareil se sont également améliorées grâce à l’obtention de fréquences plus élevées tout en maîtrisant la consommation d’énergie.

L’intérêt des concepteurs de puces pour la première technologie basée sur des transistors à nanofeuilles de classe 2 nm de TSMC est également significatif. Le nombre de nouveaux enregistrements (NTO) au cours de la première année de N2 est plus de deux fois supérieur à celui de N5. Cela dit, étant donné les relations de travail étroites de TSMC avec une poignée de fournisseurs à volume élevé – notamment Appe – les NTO peuvent être un chiffre très trompeur puisque la première année d’un nouveau nœud chez TSMC est limitée en capacité, et par conséquent la majeure partie de cela la capacité va aux partenaires prioritaires de TSMC.

Pendant ce temps, il y a eu beaucoup plus de sorties N5 au cours de sa deuxième année (certaines où N5P, bien sûr) et N2 promet d’avoir 2,6 fois plus de NTO au cours de sa deuxième année. Le nœud semble donc assez prometteur. En fait, d’après les diapositives de TSMC (que nous ne sommes malheureusement pas en mesure de republier), le N2 est plus populaire que le N3 en termes de NTO, tant au cours de la première que de la deuxième année d’existence.

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En ce qui concerne la deuxième année de N2, TSMC prévoit de déployer sa technologie N2P au cours du second semestre 2026, qui promet des avantages supplémentaires en termes de performances et de puissance. Le N2P devrait améliorer la fréquence de 15 à 20 %, réduire la consommation d’énergie de 30 à 40 % et augmenter la densité des puces de plus de 1,15 fois par rapport au N3E, des avantages significatifs pour passer aux tout nouveaux transistors à nanofeuilles GAA.

Enfin, pour les entreprises qui ont besoin des meilleures performances, puissance et densité, TSMC est sur le point de proposer son processus A16 en 2026. Ce nœud apportera également une alimentation électrique en aval, ce qui augmentera les coûts, mais devrait améliorer considérablement les performances. efficacité et évolutivité.

2024-05-30 22:34:11
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